Chemical modification of hybrid nanostructures (POSS) for application as lubricant
DOI:
https://doi.org/10.18226/23185279.v2iss1p19Abstract
Polyhedral oligomeric silsesquioxanes (POSS) are hybrid structures type RSiO15n, with n organic groups R. These molecules can be easily functionalized by simply changing the chemical constitution of the organic groups. In this work, chemical modification of POSS-NH2 was performed by amidation reaction with butyric acid at elevated temperature, 160°C. The formation of the amide group is evinced by the appearance of NH angular deformation band at 1540 cm-1 in the FTIR spectra. Approximately 40% of the amino groups reacted, according to titration results. The formation of the amide groups resulted in a shift of the glass transition temperature (Tg) from -36.9°C to -25.6°C for the modified-POSS sample. Both POSS-NH2 and modified-POSS samples exhibited similar thermal degradation pattern. Analysis of the pairs distribution function (PDF) has determined that the hybrid nanoparticles are separated by a periodic distance of approximately 1.32 nm. POSS-NH2 and modified-POSS exhibit newtonian behavior, which will range from 10-1 s-1 and 1000 s-1. The viscosity decreased with increasing temperature, a typical behavior of liquid lubricants.
Downloads
Published
How to Cite
Issue
Section
License
Copyright (c) 2014 Caroline Luvison, María Cristina Moré Farias, Otávio Bianchi
This work is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Declaração de originalidade e cessão de direitos autorais
Declaro que o presente artigo é original, não está sendo tendo sido submetido à publicação em qualquer outro periódico nacional ou internacional durante o processo de revisão. Através deste instrumento, em meu nome e em nome dos demais co-autores, porventura existentes, cedo os direitos autorais do referido artigo à revista SCIENTIA CUM INDUSTRIA. Contudo, a reprodução total ou parcial impressa ou eletrônica pode ser feita desde que o autor comunique oficialmente à revista. Declaro estar ciente de que a não observância deste compromisso submeterá o infrator a sanções e penas previstas na Lei de Proteção de Direitos Autorias. Declaro estar ciente de que a não observância deste compromisso submeterá o infrator a sanções e penas previstas na Lei de Proteção de Direitos Autorias (Nº9610, de 19/02/1998).